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尼康与英特尔联手开发半导体曝光设备

日本通·2012-08-09 09:09:12·企业
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摘要:尼康8日宣布,已开始与美国英特尔共同研发新一代半导体曝光设备。

【日本经济】尼康8日宣布,已开始与美国英特尔共同研发新一代半导体曝光设备。英特尔将为研发项目提供部分资金援助,具体的金额没有公布,但是预计为数百亿日元。

尼康与英特尔联合开发的新设备将通过在更大尺寸的半导体晶圆上绘制电路,将生产成本降低一半,目标是2018年投入生产。

英特尔7月还宣布,将向全球最大的半导体曝光设备厂商荷兰阿斯麦(ASML)提供最高41亿美元的援助,以共同研发新一代曝光设备。而台积电也在本月5日宣布向ASML出资。可见,在新一代曝光设备领域,阿斯麦走在前列。

另一方面,尼康8日还下调了2012财年的业绩预期,受日元升值影响,其销售额预期减少100亿日元至1.2万亿日元,净利润预计减少50亿日元至600亿日元。

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